氧化硅粉末中陰離子的測定

二氧化硅是制造玻璃、石英玻璃、水玻璃、光導(dǎo)纖維、電子工業(yè)的重要部件，是光學(xué)儀器、工藝品和耐火材料的原料，是科學(xué)研究的重要材料。多數(shù)應(yīng)用領(lǐng)域?qū)Χ趸璧募兌扔泻芨咭?，而二氧化硅的合成方法主要有離子交換、硅粉法、硫酸法等，均需要加入化學(xué)試劑，因此對后續(xù)的純化技術(shù)提出較高要求。離子色譜提供了一種快速檢測二氧化硅中陰離子的方法，可指導(dǎo)生產(chǎn)并對成品的質(zhì)量進行監(jiān)測。

色譜條件

分析柱：SH-G-1+SH-AP-1

流動相：15 mM KOH(EG)

流速：0.7 mL/min

柱溫：35℃

抑制器：SHY-A-6

進樣體積：100 μL

前處理：準確稱取 6.0 g 樣品（精確至 0.0001 g）于聚四氟乙烯燒杯中，準確加入 60 mL高純水，磁力攪拌 10 min，用磁鐵取出磁子，蓋上蓋子。將聚四氟乙烯燒杯轉(zhuǎn)移到烘箱中，95℃烘 20 h，取出冷卻至室溫，混合均勻?；旌弦后w倒入離心管中，離心機上3000 r/min 離心 30 min，將上清液倒入干凈離心管中，過 0.22 μm 一次性針頭過濾器進6.807' Na19.580' Mg30.633' Ca5樣分析。

氧化硅粉末中陰離子譜圖